为了增加当代大学生对半导体工业制造趋势和挑战的了解。5月21日晚,电子工程学院在阳光讲坛举办“半导体工业制造趋势和挑战”报告会。电子工程学院党委书记王斌、微电系主任赵晓锋、党员教师、院团委老师、2015级相关专业学生200余人参加报告会。
苏玻博士(美国D2S,Inc.研发和产品部),介绍了半导体IC工业发展的历程以及面临的技术上和经济上的挑战,讲述了在今后2-3年中,光刻技术瓶颈和选择及器件结构重二维到三维的过渡。摩尔定律(Moore’s law)已经成功的统治半导体IC制造业40多年了。业界也在期间在器件缩小,功能提高上屡有创新和突破,如Cu Interconnect, High K metal gate 等。但在进军十纳米以下,业界面临空前的挑战,特别是在光刻技术,器件结构上。现场同学与苏玻教授进行现场互动,苏教授对同学们提出的问题给予细致的解答。赵晓锋主任进行了专业点评,通过苏教授的学术报告会,使我们师生更加了解了半导体工业制造趋势与挑战以及当今科技发展前沿的现状。
王斌书记说,本次报告会也是一次“爱国•奋斗”主题报告会。作为新时代电子工程学院师生应该了解关注行业现状、发展趋势以及面临的挑战,要注重理论学习和国家发展相结合。近期发生的中美贸易战、中兴事件,都告诉我们,核心科技一定要掌握在自己手中。作为半导体相关专业师生,要进一步增强责任感和使命感,将爱国情怀化为爱国动力,努力奋斗,为我国半导体制造、芯片研发培养更多优秀人才,为强大“中国芯”贡献力量。(电子工程学院供稿)